好消息！中芯国际再突破，国产DUV光刻机迎来历史性时刻！

结合媒体报道以及知情人士透露，首台国产DUV光刻机正在测试，需要强调一下，这是中国首款5nm光刻机，且首次测试的结果也是令人惊喜且满意的。只不过，这次测试的还是原型机，至于什么时候可以投产，暂时还不知道。

可能有些网友会疑问，这台光刻机有啥特别之处吗？怎么才能制造出5nm芯片？特别之处就在于，它是中国大陆首台采用浸没式技术的光刻机，这项技术就是ASML公司所采用的同款技术。虽然原型机是28nm的DUV光刻机设备，但通过多重曝光的方式，就可以生产出14nm、7nm甚至更高制程工艺的芯片。

还有一个重点是，这台设备的关键零部件基本已经实现了国产化，也就是说，如果这台设备可以实现量产的话，那么咱们从ASML公司进口的“过时”光刻机就会少很多，可以不再依赖进口，不用看人脸色，花大钱办小事了，最重要的是可以突破美芯片制造设备出口的限制和卡脖。

值得一提的是，有了这台28nm光刻机，实现7nm制程，就意味着，需求量巨大的车规级芯片、AI芯片等的产能都能够大幅提升。说到这里，很多人肯定会联想到华为手机，没错，华为麒麟芯片的产能跟得上的话，就再也不用抢华为Mate、Pura系列了，或许这一次，咱们可以看到麒麟9030？可以期待一下。

当然了，DUV光刻和EUV光刻机相比，还是有一定的技术差距，但需要搞清楚的是，中国芯片产业本就是“走一步看一步”的阶段，目前最主要的目标就是在成熟芯片领域实现自给自足，先进领域暂时还只能观望。而DUV光刻机技术的突破，这意义是不是更重要？

一方面，DUV光刻机所生产的成熟工艺芯片，可以满足市场绝大部分的需求，比如手机芯片、车规级芯片、AI芯片以及军工芯片等，全都可以生产。这有利于帮助中国科技产业实现芯片自由。

另一方面，一旦中国自研DUV光刻机成功，这就意味着，中国可以把光刻机的价格打下来。要知道，咱们每年从ASML公司进口的光刻机金额高达数十亿乃至数百亿美元，供应给大陆的光刻机设备相对是比较落后的，但价格却奇高，这也让很多中国科学家和工程师们心里憋了一口气。所以，攻克DUV光刻机，已经成为科技人才的共同使命和责任。

此前，项立刚就说过，他预测国产DUV光刻机最晚2026年自研成功，EUV光刻机最晚2028年自研成功，且这个时间只会提前不会推迟，现在看来，果然如此！

虽然光刻机的构造极其复杂，但说到底，它也只是一个产品、一部机器、一台设备而已，都是人造出来的。中国之所以在光刻机领域是空白的，就是因为之前没有市场、没有需求，花了精力、资金造出来卖不掉，谁会做这种赔本的买卖呢？

现如今，中国遭遇了美西方的技术封锁，形势已经变了，只能自己干，且需要自己干。在这种变化之下，越来越多的企业挺身而出，新的企业、新的团队、新的使命感，在多重因素的推动下，我们相信，自研光刻机必定会成功。

当然了，我们虽然不知道国产DUV光刻机何时能够量产？良品率如何？和ASML公司的DUV光刻机有多少差距？但从中芯国际对此项目的命名“珠穆朗玛”就能知道，中国科技企业一定会征服这座世界高峰，让我们拭目以待吧！

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